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ASML完成了先进的极紫外光刻机的设计

对于ASML(ASML),他们正在开发更先进的光刻机,这也是芯片技术不断发展的重要推动力。 ASML当前是世界上唯一可以制造极紫外光刻机的制造商。在推出两台极限紫外光刻机TWINSCANNXE:3400B和NXE:3400C之后,它仍在开发更先进,更高效的极限紫外光刻机。 。根据国外媒体的报道,除NXE:3600D外,Asim还正在开发高数值孔径的极紫外光刻机NXE:5000系列,并且设计已基本完成。外国媒体在报告中还指出,尽管Asme NXE:5000高数值孔径极紫外光刻机的设计已基本完成,但仍需一段时间才能投入商业使用,预计将于2022年开始商业使用。在高数值孔径的极紫外光刻机中,NXE:5000系列的数值孔径将增加到0.55。 ASM已推出了两台极限紫外光刻机TWINSCANNXE:3400B和NXE:3400C。孔径为0.33。在不久前举行的一次在线活动中,欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁LucVandenhove在一次在线演讲中说,与ASML合作,更先进的光刻机取得了进步。 LucVandenhove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻和高NAEUV光刻技术商业化。由于光刻机的竞争对手以前已经退出市场,因此ASML目前拥有全球先进光刻机的主要生产能力。近年来,IMEC已与ASML合作开发新型EUV光刻机。当前的目标是减小过程规模。到1nm及以下。负责编辑AJX