据国外媒体报道，5月21日，三星电子基于超紫外光刻（EUV）技术的新型5nm芯片生产线已开始建设，投资额高达81亿美元，并计划于2010年投产。明年下半年。根据国外媒体的报道，三星周四宣布该生产线的建设已经开始。该生产线位于韩国京畿道平泽市三星公园内。该工程于本月开始，计划明年完成。国外媒体报道还显示，三星新的5nm芯片生产线计划投资10万亿韩元（约合81亿美元），并将在建成后不久投产。三星计划在明年下半年投入运营。 。使用极端的紫外线光刻技术，芯片代工厂可以顺利地生产5nm和更先进工艺的芯片。三星基于极紫外光刻技术的7纳米工艺已于去年开始批量生产。三星去年还首次宣布他们已经成功开发了芯片。采用基于极紫外光刻技术的5nm工艺。三星已经开始建造这条5nm EUV生产线，该生产线将生产用于5G，高性能计算机和人工智能的芯片。该生产线建成后，三星在韩国和美国的芯片代工生产线将增加到七条。